半導體廢氣處理Local Scrubber的特性

半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響範圍,

可分為:

1易燃性氣體如SiH4 H2等

2毒性氣體如AsH3,PH3等

3腐蝕性氣體如HF,HCl等

4溫室效應氣體如CF4,NF3等

由於以上四種氣體對環境或人體皆具有一定的危害性,必須防止其直接排放大氣中,所以,一般半導體廠都以加裝大型中央廢氣處理係統.但此係統僅以水洗滌廢氣.故其應用範圍僅限

於處理水溶性氣體,無法因應日新月異且分工細微的半導體工藝廢氣.因此必須依據各工藝所衍生出的氣體特性種類,選擇搭配相對應的廢氣處理設備,才能有效解決廢氣問題.而由於工作區域多半離中央廢氣處理係統前,常因氣體特性導致管路中結晶或粉塵堆積,造成管路堵塞後導致氣體泄漏,嚴重者甚至引起爆炸,無法確保現場工作人員之工作安全.因此在工作區域需配置適合工藝氣體特性的小型廢氣處理設備(Local Scrubber),以減少在工作區域滯留的廢氣,確保人員安全。

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